Crecimiento de peliculas delgadas de sno2 mediante pulverizacion catodica para el desarrollo de microsensores de gas metano
- Javier Gracía Gaudó Director/a
Universitat de defensa: Universidad de Navarra
Any de defensa: 2000
- Manuel Fuentes Perez President/a
- Enrique Castaño Carmona Secretari
- Javier Gutierrez Monreal Vocal
- Emilio Lora Tamayo Vocal
- Andrés García-Alonso Montoya Vocal
Tipus: Tesi
Resum
El continuo avance de la tecnología de microsistemas está dando lugar a innovadores y altamente controlados procesos que en un ambiente de sala limpia permiten la microfabricación de complejos dispositivos miniaturizados, de bajo consumo y con un relativo bajo coste derivado de una potencial fabricación en grandes series. El trabajo que se presenta, aplica estas técnicas al sector de los microsensores químicos en general y a los microsensores de gases en particular. Partiendo de un material básico en la industria microelectrónica, como es el sicilio monocristalino, añade nuevos materiales específicos como son las cerámicas semiconductoras. En este contexto se distinguen dos grandes áreas de investigación y desarrollo: Poruna parte, se investiga las propiedades sensoras de películas delgadas de óxido de estaño depositadas por sputtet para la detección de metano. Se ha analizado la influencia que tienen diferentes parámetros del proceso de depósito de la película en la obtención de películas sensibles y selectivas al metano. De esta manera, se ha desarrollado un proceso de optimización de las películas que ha considerado la influencia del tipo de blanco a partir del que se hace el depósito, la atmósfera durante el depósito, la temperatura de recocido, el espesor de la película, la ubicación del catalizador, la temperatura de funcionamiento y la alimentación eléctrica de la película. El resultado ha sido la obtención de unas películas delgadas de SnO2 de elevada sensibilidad y selectividad al metano. Por otra parte se ha desarrollado una estructura de un microsensor de gas para la detección de metano. Se han aplicado técnicas avanzadas de procesamiento del silicio como son el micromecanizado en volumen y el pegado electrostático. El microdispositivo resultante incluye un microcalefactor superficial y una película de óxido de estaño depositada con los parámetros obtenidos en el estudio prev