Micromecanizado de diafragmas delgados de silicio con parada electroquimica. Aplicacion a sensores de baja presion de grado biomedico

Abstract

En los últimos años se ha dado una importante evolución en el campo de los sensores con su tendencia a la miniaturización y disminución de costos. La medida de bajas presiones requiere el uso de diafragmas de espesor delgado obtenidos mediante micromecanizado con parada electroquímica del ataque al silicio. El objetivo fundamental se centra en la caracterización electroquímica del silicio, realizando un estudio sistemático de la influencia de la temperatura y concentración del atacante (KOH) en las variables electroquímicas del proceso. El conocimiento de las leyes y la fenomenología que gobiernan el proceso, ha permitido obtener diafragmas delgados con difusión de piezorresistencias en puente de Wheatstone. La realización de los procesos, ha exigido el diseño y la construcción de un sistema automático de control y medida, así como el banco de ensayos electroquímicos. Los resultados obtenidos han validado el proceso de fabricación del microsensor de presión arterial.