Piezorresistividad en peliculas delgadas de silicio policristalino para la determinacion de presion

  1. OBIETA VILALLONGA, ISABEL
Zuzendaria:
  1. Javier Gracía Gaudó Zuzendaria

Defentsa unibertsitatea: Universidad de Navarra

Defentsa urtea: 1996

Epaimahaia:
  1. Manuel Fuentes Perez Presidentea
  2. Enrique Castaño Carmona Idazkaria
  3. Santiago Álvarez Perez Kidea
  4. Juan Andrés de Agapito Serrano Kidea
  5. Javier Gutierrez Monreal Kidea

Mota: Tesia

Teseo: 57004 DIALNET

Laburpena

Desde sectores con un alto indice de demanda potencial de microsensores como el del automovil o el de electrodomestico, se requieren dispositivos para la medida de presion caracterizados por: un bajo coste; altas temperaturas de operacion y altas especificaciones. En este sentido, el silicio policristalino constituye una importante alternativa piezorresistiva. Asi, el presente trabajo, se ha centrado en el desarrollo de un proceso de fabricacion de peliculas delgadas de silicio policristalino dopado y la optimizacion de sus propiedades piezorresistivas en relacion con la determinacion de presion. En este sentido, la seleccion de un proceso de fabricacion basado en sputtering, el establecimiento de procesos de dopado y la realizacion de ensayos que midan las propiedades piezorresistivas y caractericen fisica y microestructuralmente dichas peliculas han permitido establecer una interrelacion entre las propiedades electricas y microstucturales como analisis profundo de los mecanismos que influyen en la piezorresistividad. Las caracteristicas en las que se ha centrado la optimizacion han sido: sensibilidad a la deformacion y a la temperatura. Los resultado experimentales obtenidos sobre dichas peliculas han sido validados en estructuras formadas por silicio monocristalino micromecanizado y oxidado con pelicula delgada de polisilicio.