Enriquecimiento en Si mediante PVD de chapas magnéticas convencionales para aplicaciones a altas frecuencias

Resumen

El presente trabajo estudia la viabilidad de un metodo para enriquecer en Si chapas de Fe-3%Si convencionales, depositando Si en su superficie mediante PVD y sometiendolas a un tratamiento termico de difusion. Se trata de obtener chapas magneticas con un contenido en Si de un 6,5% en peso, ya que estas presentan mayor resistividad y magnetoestriccion nula, reduciendo las perdidas y solucionando los problemas de ruido a altas frecuencias. Las capas depositadas por PVD, de espesores ~5 �Êm, presentan buena adherencia al substrato. En cuanto al tratamiento termico, se observa que hay una velocidad de calentamiento critica entre 5 y 15��/min, por encima de la cual la pelicula se despega sin llegarse a formar intermetalicos en la intercara. A 3��/min se dan las condiciones para la formacion de intermetalicos. Calentando directamente hasta temperaturas de unos 800��C se obtiene una capa superficial de Fe3Si(�¿1) que, aun siendo fragil, no se despega durante el tratamiento. Un calentamiento posterior hasta temperaturas del orden de 1200��C permite la homogeneizacion de la composicion de la chapa. Existe evidencia de efecto Kirkendall en el par de difusion Fe3Si�¿1)/Fe(�¿), debido a que la difusion de Fe en Fe3Si(�¿1) es mayor que la de Si en Fe(�¿).