Preparación y caracterización superficial de electrodos de espinela de cobalto dopados con cobre, Cux Co3-x O4, 0≤x≤1.5
- La Rosa Toro, A. 1
- Berenguer, R. 2
- Quijada, C. 3
- Montilla, F. 4
- Morallón, E. 2
- Vázquez, L. 2
- 1 Facultad de Ciencias, Universidad Nacional de Ingeniería. Lima, Perú.
- 2 Departamento de Química Física e Instituto Universitario de Materiales, Universidad de Alicante
- 3 Departamento de Ingeniería Textil y Papelera, Universidad Politécnica de Valencia
- 4 Instituto de Biología Molecular y Celular, Universidad Miguel Hernández
ISSN: 0375-7765
Año de publicación: 2006
Volumen: 16
Número: 2
Páginas: 33-42
Tipo: Artículo
Otras publicaciones en: TECNIA
Resumen
Se han preparado películas de óxido de cobalto (Co3O4) y óxido del cobalto dopados con cobre de fórmula CuxCo3-xO4 soportados sobre titanio empleado el método de descomposición térmica. Los electrodos fueron caraterizados por Microscopía Electrónica de barrido (SEM), Voltametría cíclica (VC) y Espectroscopía Fotoelectrónica de Rayos X (XPS), determinando que los óxidos de esppinela Cu-Co tienen estructura monofásica cuando x d>>1.0, sin embargo, cuando el contenido de cobre excede la relación estequimétrica de la cobalita de cobre, CuCo2O4 se forma una nueva especie identificada como CuO el cual aparece segregado en la superficie. La distribución de los cationes de cobre en la espinela, indica que el Cu(II) se ubica preferencialmente en los sitios octaédricos de mayor actividad electroquímica.
Referencias bibliográficas
- [1] S. Trasatti, "Editor, Studies in Physical and Theoretical Chemistry". Vol. 11. Electrodes of Conductive Metallic Oxides. Part. A-B; Elsevier Science Publishers: Amsterdam, The Netherlands, 1980/1981.
- [2] S. Trasatti, "Electrochim Acta", 45 (2000) 2377.
- [3] Morallón, E., Quijada, C., Vázquez, J. L., Aldaz, A., Cases, F. "J.Appl. Electrochem", 28 (1998) 607.
- [4] Montilla, E., Morallón, E., De Battisti, A., Vázquez, J. L., "J. Phys. Chem", part. B, 108 (2004) 5036.
- [5] Montilla, F., Morallon, E., De Battisti, A., Benedetti, A, Yamashita, H., Vazquez, J. L., "J. Phys. Chem B, 104 (2004) 5044.
- [6] Montilla, F., Morallón, E., Vázquez, J. LE "Electrochem, Soc 152 (2005) B421.
- [7] Rodgers, J. D., Jedral, W., Bunce, N. J.. "Environ. Sci. Technol. 33 (1999) 1453,
- [8] Szpyrkowicz, L., Juzzolino, C. Kaul. S. N.. "Wat. Res.", 35 (2001)2129
- [9] Tejuca, L.G, Fierro, J. L. F.. Tascon, J. M.. "Advances in Catalysis." vol. 36, Academic, New York, 1989.
- [10] Burke, L. D.. McCarthy, M. M.. "Electrochem. Soc." 135 (1988)1175.
- [11] Castro, E. B., Gervasi. C. A.. "J. Hydrog. Energy 25 (2000) 1163.
- [12] Tavares, A. C., Cartaxo, M. A. M.. Pereira, M. I. D., Costa, F. M.. "Electroanal. Chem" 464 (1999) 187.
- [13] Singh, R. N., Pandey, J. P., Singh, N. K., Lal, B., Chartier, P., Koenig. J. F. "Electrochim Acta, 45 (2000) 1911
- [14] Boggio, R., Carugati, A., Lodi, G. Trasatti. S., Appl., "J. Electrochem." 15 (1985) 335.
- [15] Cox, P., Pletcher, D., J. Appl. Electrochem." 21 (1991) 11.
- [16] Rios, E., Nguyen-Cong, N., Marco, J. F., Gancedo, J. R., Chartier, P., Gautier, J. L.. "Electrochim. Acta.", 45 (2000) 4431.
- [17] Casella, I. G., Guascito, M. R., "Electrochim. Acta", 45 (1999) 1113.
- [18] Stavart, A. Van Lierde. "J. Appl. Electrochem 31 (2001) 469.
- [19] M. Ando, T. Kobayashi, S. Ijima, M. Haruta, "J. Mater. Chem., 7 (1997) 1779.
- [20] Marco, J. F., Gancedo, J.R., Gracia, M., Gautier, J. L., E.I. Rios, Palmer, H. M.,
- Greaves, C., Berry, F. J., Mater, J., "Chem.", 11 (2001) 3087.
- [21] Svegl, F., Orel, B., Hutchins, M. G., Kalcher, K., "J. Electrochem. Soc.", 143 (1996) 1532.
- [22] Poizot, P., Laurelle, S., Grugeon, S., Dupont, L., Tarascon, J. M., "Nature", 407 (2000) 496.
- [23] Tavares, A. C., Da Silva Pereira, M. I.. Mendoça, M. II., Nunes, M. R., Costa, F. M., Sá, C. M., "J. Electroanal. Chem.", 449 (1998) 91.
- [24] Wen, T. C., Kang, H. M., "Electrochim. Acta", 43 (1998) 1729.
- [25] Stefanov, P., Avramova, I., Stoichev, D., Radic, N., Grbic, B., Marinova, Ts., "Appl. Surf. Sci.", 245 (2005) 65.
- [26] Gautier, J. L., Trollund, E., Ríos, Nkeng, E. P., Poillerat, G, J. Electroanal. Chem.", 428 (1997) 47
- [27] T.C. Wen, H.M. Kang. "Electrochim. Acta" 43 (1998) 1729.
- [28] Li, G. H., Dai, L. Z., Lu, D. S., Peng, S. Y., "J. Solid State. Chem", 89 (1990) 167.
- [29] Fierro, G., Lo Jacono, M., Inversi, M., Dragone, R., Porta, P., "Topics in Catálisis", 10 (2000) 39-48.
- [30] Fradette, N., Marsan, B., "J. Electrochem. Soc. 145 (1998) 2320.
- [31] Wen. T. C., Kang, H. M.. "Electrochim. Acta", 43 (1998) 1729
- [32] Galtayres, J. Grimbolt, "J. Electrón Spectr. Rel. Phenom" 98-99 (1999) 267.
- [33] D. Briggs, M.P. Seah (Eds.). "Practical surface analysis: by Auger and X-Ray Photoelectron Spectroscopy. Wiley & Sons. 1996.
- [34] Galtayres, J. Grimbolt, "J. Electrón Spectr. Rel. Phenom.", 98-99 (1999) 267.
- [35] Angelov, S., Tyuliev, G., Marinova, Ts., "Appl. Surf. Sci. 27 (1987) 381.
- [36] Li, G. H., Dai, L. Z., Lu, D. S., Peng, S. Y., "J. Solid State. Chem.", 89 (1990) 167.
- [37] Gillot, B., Buguet, S., Kester, E., Baubet, C. Ph., Tailhades, "Thin Solid Films", 357 (1999)223.
- [38] La Rosa Toro, Montilla, F., Morallón, E., Vázquez, J.. "REVCIUNI" VS, 2 (2004) 97.