Ru and RuO2 gate electrodes for advanced CMOS technology

  1. Fröhlich, K.
  2. Husekova, K.
  3. Machajdik, D.
  4. Hooker, J.C.
  5. Perez, N.
  6. Fanciulli, M.
  7. Ferrari, S.
  8. Wiemer, C.
  9. Dimoulas, A.
  10. Vellianitis, G.
  11. Roozeboom, F.
Aldizkaria:
Materials Science and Engineering B: Solid-State Materials for Advanced Technology

ISSN: 0921-5107

Argitalpen urtea: 2004

Alea: 109

Zenbakia: 1-3

Orrialdeak: 117-121

Mota: Biltzar ekarpena

DOI: 10.1016/J.MSEB.2003.10.061 GOOGLE SCHOLAR
Datuen iturria: Scopus