High-power laser interference lithography process on photoresist: Effect of laser fluence and polarisation

  1. Ellman, M.
  2. Rodríguez, A.
  3. Pérez, N.
  4. Echeverria, M.
  5. Verevkin, Y.K.
  6. Peng, C.S.
  7. Berthou, T.
  8. Wang, Z.
  9. Olaizola, S.M.
  10. Ayerdi, I.
Revista:
Applied Surface Science

ISSN: 0169-4332

Any de publicació: 2009

Volum: 255

Número: 10

Pàgines: 5537-5541

Tipus: Article

DOI: 10.1016/J.APSUSC.2008.07.201 GOOGLE SCHOLAR
Font de les dades: Scopus