High-power laser interference lithography process on photoresist: Effect of laser fluence and polarisation

  1. Ellman, M.
  2. Rodríguez, A.
  3. Pérez, N.
  4. Echeverria, M.
  5. Verevkin, Y.K.
  6. Peng, C.S.
  7. Berthou, T.
  8. Wang, Z.
  9. Olaizola, S.M.
  10. Ayerdi, I.
Revista:
Applied Surface Science

ISSN: 0169-4332

Ano de publicación: 2009

Volume: 255

Número: 10

Páxinas: 5537-5541

Tipo: Artigo

DOI: 10.1016/J.APSUSC.2008.07.201 GOOGLE SCHOLAR
Fonte de datos: Scopus