High-power laser interference lithography process on photoresist: Effect of laser fluence and polarisation

  1. Ellman, M.
  2. Rodríguez, A.
  3. Pérez, N.
  4. Echeverria, M.
  5. Verevkin, Y.K.
  6. Peng, C.S.
  7. Berthou, T.
  8. Wang, Z.
  9. Olaizola, S.M.
  10. Ayerdi, I.
Aldizkaria:
Applied Surface Science

ISSN: 0169-4332

Argitalpen urtea: 2009

Alea: 255

Zenbakia: 10

Orrialdeak: 5537-5541

Mota: Artikulua

DOI: 10.1016/J.APSUSC.2008.07.201 GOOGLE SCHOLAR
Datuen iturria: Scopus