Thermal slip sources at the extremity and bevel edge of silicon wafers

  1. Tanner, B.K.
  2. Wittge, J.
  3. Allen, D.
  4. Fossati, M.C.
  5. Danilwesky, A.N.
  6. McNally, P.
  7. Garagorri, J.
  8. Elizalde, M.R.
  9. Jacques, D.
Revista:
Journal of Applied Crystallography

ISSN: 0021-8898,  1600-5767

Any de publicació: 2011

Volum: 44

Número: 3

Pàgines: 489-494

Tipus: Article

DOI: 10.1107/S0021889811012088 GOOGLE SCHOLAR
Font de les dades: Scopus