Thermal slip sources at the extremity and bevel edge of silicon wafers

  1. Tanner, B.K.
  2. Wittge, J.
  3. Allen, D.
  4. Fossati, M.C.
  5. Danilwesky, A.N.
  6. McNally, P.
  7. Garagorri, J.
  8. Elizalde, M.R.
  9. Jacques, D.
Revista:
Journal of Applied Crystallography

ISSN: 0021-8898 1600-5767

Ano de publicación: 2011

Volume: 44

Número: 3

Páxinas: 489-494

Tipo: Artigo

DOI: 10.1107/S0021889811012088 GOOGLE SCHOLAR